Effect of atomic layer deposition Pparameter alteration on monolayer graphene and resistive switching

dc.contributor.advisorKukli, Kaupo, juhendaja
dc.contributor.advisorKahro, Tauno, juhendaja
dc.contributor.authorRaudonen, Kristina
dc.contributor.otherTartu Ülikool. Füüsika instituutet
dc.contributor.otherTartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkondet
dc.date.accessioned2024-10-02T08:30:01Z
dc.date.available2024-10-02T08:30:01Z
dc.date.issued2024
dc.description.abstractSee töö on pühendatud ühekihilise grafeeni kvalitatiivsele analüüsile ja takistuslülitustele, kui aatomkihi sadestamise parameetreid, nagu temperatuur ja kile koostis muudetakse, lisades protsessile lõõmutamise ja puhvrikihi.et
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10062/105006
dc.language.isoen
dc.publisherTartu Ülikoolet
dc.rightsAttribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Estoniaen
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/ee/
dc.subjectgrafeenet
dc.subjectaatomkihtsadestamineet
dc.subjectRamani spektroskoopiaet
dc.subject.othermagistritöödet
dc.titleEffect of atomic layer deposition Pparameter alteration on monolayer graphene and resistive switchingen
dc.typeThesiset

Files

Original bundle

Now showing 1 - 1 of 1
Loading...
Thumbnail Image
Name:
Kristina_Raudonen.pdf
Size:
1.45 MB
Format:
Adobe Portable Document Format