HfO2 kilede aatomkihtkasvu uurimine

Lühendatud kirje lehekülg
dc.contributorTartu Ülikool. Füüsika-keemiateaduskondet
dc.contributorTartu Ülikool. Materjaliteaduse instituutet
dc.contributor.advisorSammelselg, Väino, juhendajaet
dc.contributor.advisorAarik, Jaan, juhendajaet
dc.contributor.authorRammula, Raulet
dc.date.accessioned2007-01-09T06:50:22Z
dc.date.available2007-01-09T06:50:22Z
dc.date.issued2005et
dc.identifier.otherTartu Ester bibnumber: b17346885et
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10062/1211
dc.language.isoestet
dc.subjectchemistry
dc.subjectthin films
dc.subject.otherhafniumühendidet
dc.subject.otherõhukesed kiledet
dc.subject.otheraatomkihtepitaksiaet
dc.subject.othermagistritöödet
dc.titleHfO2 kilede aatomkihtkasvu uurimineet
dc.title.alternativeAtomic layer deposition study of HfO2 thin filmset
dc.typeThesiset

Failid

Originaal pakett

Nüüd näidatakse 1 - 1 1
Pisipilt
Nimi:
rammula.pdf
Suurus:
1.07 MB
Formaat:
Adobe Portable Document Format
Lae alla

Litsentsi pakett

Nüüd näidatakse 1 - 1 1
Pisipilt ei ole saadaval
Nimi:
license.txt
Suurus:
341 B
Formaat:
Plain Text
Kirjeldus:
Lae alla

Kollektsioonid

1. TÜ väitekirjad alates 2004. Kaitstud doktoritööd, teadusmagistritööd. Doctoral theses, PhD, MSc, MPhil.